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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機產(chǎn)品，使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。

      
納米級粉末的分散，普遍會出現(xiàn)物料團聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致粒徑變大。IKN研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結(jié)合，先研磨后分散機，解決團聚問題！

CMD2000系列研磨式分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
                

            
CMD2000系列研磨式分散機的特點：

 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列設(shè)備選型表

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和最終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).
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