日東RP301保護膜出售 RP301價格 日本保護膜
E-MASK RP 系列適用于保護抗靜電性光學(xué)級保護膜的表面，生產(chǎn)于1000 級清潔環(huán)境下，并以一種聚合物薄膜作為基材。
特征：
高透明性使檢查被粘合體的外觀變得輕而易舉，根本無需剝離膠帶。
具有適宜于光學(xué)薄膜的良好潤濕性和卓越的可重復(fù)使用特性。
易剝離。 適合較大尺寸的光學(xué)薄膜 (RP207)。
襯背高度防塵，并易于除塵 (RP207)。
襯背可蓋印戳或使用噴墨打印機打印 (RP207/RP301)。
