，德國(guó)進(jìn)口研磨均質(zhì)機(jī)，非索非那定鹽酸鹽干混懸劑研磨均質(zhì)機(jī)，鹽酸鹽干混懸劑研磨分散機(jī)，醫(yī)藥混懸液研磨均質(zhì)機(jī)，高剪切研磨均質(zhì)機(jī)，高轉(zhuǎn)速研磨均質(zhì)機(jī)，高效率研磨均質(zhì)機(jī)
IKN研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎�？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
非索非那定鹽酸鹽干混懸劑主要由：非索非那定鹽酸鹽、填充劑、甜味劑、助懸劑、矯味劑、遮味劑、潤(rùn)濕劑、檸檬酸緩沖鹽或磷酸緩沖鹽混合均質(zhì)而成，該成品穩(wěn)定性高、流動(dòng)性好、易于儲(chǔ)存；配制成混懸劑后，吸收迅速，生物利用度高，服用方便，口感良好，穩(wěn)定性高。
針對(duì)于研磨均質(zhì)機(jī)的選用比較嚴(yán)格，第一要速度快，第二要流量大（效率高），第三線速度高，第四立式結(jié)構(gòu)符合GMP標(biāo)準(zhǔn)，第五能夠保證物料100%通過設(shè)備進(jìn)行研磨均質(zhì)機(jī)，第六與物料接觸的部分需316L不銹鋼，內(nèi)表面拋光可以達(dá)到醫(yī)藥級(jí)的0.4.
上海依肯機(jī)械針對(duì)這些要求特別推出一款集膠體磨與分散均質(zhì)機(jī)于一體的設(shè)備——研磨均質(zhì)機(jī)，特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí)，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對(duì)處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確�；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產(chǎn)對(duì)于粒徑的要求。
IKN研磨均質(zhì)機(jī)較其它混合研磨的設(shè)備還有一些突出的特點(diǎn)，如下：
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力
更可靠 采用整體式機(jī)械密封，zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國(guó)際先進(jìn)的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.
從設(shè)備角度來分析，影響研磨均質(zhì)效果因素有以下幾點(diǎn)：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計(jì)算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
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