,,高分子多孔微球分散機,多孔微球分散膠體磨，
IKN膠體磨具有設(shè)計緊湊、實用新型，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細(xì)物料最理想的加工設(shè)備。
高分子多孔微球的制備方法
多孔功能聚合物微球在色譜、化妝品、生物 醫(yī)學(xué)、特種顏料和涂料等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。
目前，制備多孔聚合物微球的傳統(tǒng)方法主要有：懸浮聚合法、酸堿溶脹法、自組裝法、蒸餾沉淀法等，結(jié)合萃取、透析、溶劑蒸發(fā)、刻蝕、噴霧干燥、真空干燥等方法制得多孔聚合物微球。在以上這些制備多孔聚合物微球的方法中，先制備了核殼結(jié)構(gòu)的聚合物微球，然后對核殼結(jié)構(gòu)的聚合物微球進行后期處理，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的聚合物微球。在以上這些制備方法中，多數(shù)是從粒徑可控的方向出發(fā)，以制備單分散的多孔聚合物微球，其制備過程較復(fù)雜，時間成本也較大，此外，這些制備方法只適合于制備少量的多孔聚合物微球。因此，新型的、高效的、能夠同時吸附有害染料和可揮發(fā)性有害物質(zhì)的多功能性多孔微球的制備方法，迄今為止鮮見報道。常用的制備方法為懸浮聚合法和種子溶脹法
1、懸浮聚合法。
懸浮聚合法是制備多孔聚合物微球的傳統(tǒng)方法。首先在單體中加入致孔劑進行懸浮聚 合，聚合結(jié)束后再將致孔劑除去，致孔劑原來占 有的空間被保留下來，使微球具有多孔結(jié)構(gòu)。 該法所得微球中的孔為開孔結(jié)構(gòu)，微球粒徑一般在20 微米-1000微米。單體一定時，微球大小主要由聚合的分散條件決定，而微孔的大小及形態(tài)主要由致孔劑的種類和用量決定。
2、種子溶脹法
種子溶脹法是指通過在溶脹種子微球內(nèi)的 聚合制備多孔微球聚合物微球的方法。該方法包 括以下步驟：
首先通過分散聚合或乳液聚合法 制備粒徑單分散的線性聚合物微球，作為下一 步聚合的種子，同時起到線性聚合物致孔劑的 作用；將交聯(lián)單體和功能單體，有時也包括溶劑 致孔劑加入到種子體系中，使種子充分溶脹；升溫并加入引發(fā)劑引發(fā)單體聚合；過濾，通過干燥 和索氏抽提法除去微球中的致孔劑，得到多孔 聚合物微球。根據(jù)工藝的不同，該法可分為一 步溶脹、兩步溶脹以及動力學(xué)溶脹三種。
三．高分子多孔微球的簡介
高分子多孔微球是功能高分子材料的一種，也叫大孔樹脂，有較好吸附性能的有機高聚物吸附劑，其內(nèi)部具有三維空間立體孔結(jié)構(gòu)，孔徑與比表面積都比較大，大孔吸附樹脂一般不帶有離子交換基團，但其珠粒內(nèi)部擁有與分離對象分子尺寸相匹配的吸附場所和擴散通道，常為白色的球狀顆粒，通常根據(jù)鏈節(jié)分子結(jié)構(gòu)分為非極性和極性兩大類。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMSD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMSD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
