石墨硅基復(fù)合負(fù)極材料研磨分散設(shè)備，，鋰電負(fù)極材料研磨分散設(shè)備，德國進(jìn)口高剪切研磨分散機(jī)，超高速研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，連續(xù)式研磨分散機(jī)
IKN研磨分散機(jī)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。而普通分散機(jī)很難做到連續(xù)長時(shí)間的運(yùn)行，并且普通分散機(jī)不能承受高轉(zhuǎn)速的運(yùn)行
硅材料因具有較高的儲(chǔ)理容量（理論比容量4200mAh/g)和豐富的資源，被認(rèn)為是 開發(fā)新一代高比能量及高功率密度的鋰離子電池負(fù)極材料的理想候選材料之一。然而，硅 負(fù)極由于其在鋰的嵌、脫循環(huán)過程中要經(jīng)歷嚴(yán)重的體積膨脹和收縮，造成材料結(jié)構(gòu)的破壞 和粉碎化，從而導(dǎo)致電極循環(huán)性能的衰退，限制了其商業(yè)化應(yīng)用。因此，抑制硅材料的體積 膨脹，提高材料的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定對(duì)于提高硅材料的電導(dǎo)率與循環(huán)穩(wěn)定性意義重大。目前主要通 過硅的納米化、硅與金屬的合金化、硅與碳材料的復(fù)合來改善硅材料的體積膨脹。
石墨硅基復(fù)合負(fù)極材料及其制備方法，采用高殘?zhí)季酆衔锊牧献鳛楣杌潭ɑ妮d體，利用有機(jī)高分子微球在高溫碳化后的均勻疏松特性，可控設(shè)計(jì)納米硅與高分子微球均勻鑲嵌的有機(jī)無機(jī) 組合體，碳化后形成納米硅與微納多孔碳網(wǎng)相容的復(fù)合材料，該方法可改善納米硅顆粒在 硅基復(fù)合負(fù)極材料中的分散性，緩解材料脫嵌鋰時(shí)的體積膨脹和收縮，增強(qiáng)了材料的結(jié)構(gòu) 穩(wěn)定性，保證材料具有較高的導(dǎo)電率，提高材料的電化學(xué)性能及其循環(huán)穩(wěn)定性能。
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計(jì)算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
