，納米硅分散設(shè)備，鋰離子電池用納米硅混合分散設(shè)備，納米硅研磨細化設(shè)備，德國進口研磨分散機，高剪切研磨分散機

IKN研磨分散機設(shè)計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎�？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

隨著人們?nèi)找嬖鲩L的需求和科學(xué)技術(shù)發(fā)展的需要，對鋰離子二次電池的容量和循環(huán)性提出了更高的要求，在許多儲能裝置應(yīng)用方面對功率密度的要求越來越高，特別是大容量、高功率的超級電容器、動力型鋰離子電池將成為今后環(huán)保型電動汽車、海陸空軍事裝備和軍事通訊的理想電源。因此，開發(fā)具有高容量和循環(huán)性能好的電極材料是研制高性能鋰離子二次電池的首要任務(wù)。與已商品化使用的負極炭材料如石墨、中間相炭微球、石油焦等相比，Si與Li形成的合金均具有遠高于石墨理論值372mAh / g的儲鋰容量(S1-Li合金為4200mAh / g),作為鋰離子二次電池負極材料已成為目前國際上的研究熱點。但是,這種材料實際應(yīng)用中還存在許多問題，其主要原因是Si在Li的嵌入和脫出過程中發(fā)生較大的體積變化(膨脹率達300% )，在材料內(nèi)部產(chǎn)生較大的內(nèi)應(yīng)力，造成粉末化而導(dǎo)致電極循環(huán)性能嚴重衰退。

目前解決這個問題采取的主要手段是將這些材料的尺寸裁減到納米尺寸，通過降低體積效應(yīng)來縮短充放電過程中離子的擴散路徑而緩減體積膨脹。納米硅粉的制備方法有很多，主要有化學(xué)氣相沉積，激光燒蝕法，物理蒸發(fā)法、溶液法等，但這些方法制備納米硅成本比較高，生產(chǎn)量比較小，同時制備出來的納米硅穩(wěn)定性和粒徑均一性差。

納米硅的制備方法，將粒徑為1～20微米的硅粉按照固含量為5～50%的比例加入到分散劑中，高速分散均勻后，加入到循環(huán)式研磨機中，在溫度為10～60℃的情況下，研磨4～20小時，即得到納米硅。所述的分散劑為下列之一或兩種以上任意比混合物：水、乙醇、bing酮、環(huán)己烷、丁酮、丁醇、乙二醇。具有生產(chǎn)工藝簡單，生產(chǎn)成本低等優(yōu)點；制備的納米硅純度高，粒徑均勻，穩(wěn)定性好，可用于金屬表面處理或者替代納米碳粉或石墨，作為鋰電池負極材料，大幅度提高鋰電池容量。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000模塊化設(shè)計主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足生產(chǎn)時對于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器