，石墨烯金屬納米復(fù)合材料研磨分散機(jī)，德國進(jìn)口超高速分散設(shè)備，管線式高效率研磨分散設(shè)備
依肯（IKN）研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
 
 專家表明銅基復(fù)合材料中，經(jīng)表面修飾的石墨烯分散性好，雜質(zhì)含量低，且保持了完整的表面形貌，與石墨粉末、Ti3SiC2粉末和銅粉末發(fā)揮共增強(qiáng)作用，顯著提高了銅基復(fù)合材料的力學(xué)及耐摩擦磨損性能，同時(shí)還具有優(yōu)異的強(qiáng)度和耐沖擊性。
2004年，來自曼徹斯特大學(xué)的Andre Geim和Konstantin Novoselov首次利用機(jī)械 剝離法成功分離出穩(wěn)定的石墨烯，石墨烯便以其獨(dú)特的二維結(jié)構(gòu)和獨(dú)特的電學(xué)、光學(xué)、力學(xué) 等性能深受廣大學(xué)者的關(guān)注。石墨烯具有極高的機(jī)械強(qiáng)度、理想的彈性、低的熱膨脹系數(shù)、 尺寸小等優(yōu)良的特性使其成了zui具潛力的增強(qiáng)體材料。
    石墨烯在增強(qiáng)高分子復(fù)合材料方面取得了很快的發(fā)展，但在增強(qiáng)金屬基復(fù)合材料 方面還存在許多困難。這其中的主要困難在于石墨烯像其它納米材料一樣具有很大的比表 面積和比表面能，存在很大的范德華力，容易聚集堆積，很難在金屬基體中均勻分散。另一 方面，石墨烯的表面活性較低，與金屬基體的潤濕性差，這造成了其與金屬基體之間的界面 結(jié)合較差。這些因素會嚴(yán)重影響金屬基復(fù)合材料的密度，及其力學(xué)、電學(xué)、摩擦磨損等性能， 尤其是摩擦磨損性能。在金屬復(fù)合材料領(lǐng)域中，銅基復(fù)合材料被廣泛用作電子元件材料、滑 動材料、觸頭材料、熱交換材料等。因此，石墨烯在增強(qiáng)銅基復(fù)合材料方面zui受關(guān)注。
   為解決以上問題，目前一些研究致力于先對石墨烯進(jìn)行改性鍍銅或者鍍鎳，然后 再采用粉末冶金法制備石墨烯增強(qiáng)銅基復(fù)合材料。但是對石墨烯進(jìn)行改性鍍銅或鍍鎳，工 藝復(fù)雜，能耗大。也有一些研究致力于采用強(qiáng)酸或者混酸對石墨烯進(jìn)行預(yù)處理，但是這種處 理方式對石墨烯具有一定的破壞作用，會將石墨烯剪切為極小的石墨烯，破壞其比表面，且 常需要較高溫度和較長時(shí)間，同時(shí)處理時(shí)容易產(chǎn)生污染性的氣體。
中國發(fā)明專利申請CNA公開了一種石墨烯/銅復(fù)合材料及其制備方法， 將銅鎳合金粉與鱗片石墨共同機(jī)械球磨，機(jī)械球磨加入酒精作為濕磨介質(zhì)，借助機(jī)械力從 石墨中剝離出石墨稀，初步得到石墨稀/銅復(fù)合粉，再通過粉末冶金、熱擠壓、乳制技術(shù)得到 石墨烯/銅的復(fù)合材料。該方法無法保證鱗片石墨完全剝離成石墨烯片，會存在石墨團(tuán)聚的 問題。
中國發(fā)明專利申請CNA公開了一種石墨烯表面改性及分散方法，所述方 法包括如下步驟:步驟一：稱取五水合硫酸銅、硫酸鎳、檸檬酸、硼酸配制成混合溶液A，攪 拌;步驟二:將混合溶液A放置于磁力攪拌水浴鍋中加熱，再加入氧化石墨烯溶液，攪拌，制 成混合溶液B;步驟三：向溶液B中加入次亞磷酸鈉溶液，攪拌，進(jìn)行加速反應(yīng)，超聲分散處 理，即可獲得均勻分散的石墨烯/銅復(fù)合材料溶液;步驟五：用微孔過濾膜對溶液進(jìn)行反復(fù) 抽濾，多次洗滌至pH呈中性，真空干燥，還原。此方法步驟繁雜，且會存在還原不徹底殘留氧 化石墨烯的可能；同時(shí)處理過程使用到多種試劑，其中硼酸對人體有毒害作用。
 優(yōu)選的石墨烯為單層石墨烯或多層石墨烯。采用石墨烯增強(qiáng)銅基復(fù)合材料 的時(shí)候，由于復(fù)合材料結(jié)合的特點(diǎn)，使用單層的石墨烯的時(shí)候增強(qiáng)效果突出，但是石墨烯在 銅基體中的含量提高空間受到空間分布的限制，增強(qiáng)效果難以達(dá)到ziu佳水平。使用多層石 墨烯的時(shí)候，雖然石墨烯本身具有多層的結(jié)構(gòu)，但是石墨烯可以更好的達(dá)到增強(qiáng)復(fù)合材料 的飽和水平，使得復(fù)合材料的性能提升效果更加顯著。
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤�？筛鶕�(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
 
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
 
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器