UV光催化氧化設(shè)備是利用高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，分解惡臭氣體如氨、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯等分子的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成如CO2、H2O等低分子化合物，
UV光催化氧化設(shè)備技術(shù)注意事項(xiàng)：
1、惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。
2、裂解反應(yīng)的時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)（見反應(yīng)④）的時(shí)間需2-3s。
3、提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸煌耆梢恍┲虚g副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對(duì)于高濃度大分子的有機(jī)惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。
4、UV光解凈化的長(zhǎng)期穩(wěn)定、高效，需要反應(yīng)溫度＜70℃，粉塵量＜100mg/m3，相對(duì)濕度＜99%。
5、條件滿足的情況下，UV光解凈化的凈化效率可達(dá)到99.9%以上。
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