導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)，碳管導(dǎo)電漿料研磨分散機(jī)，CNT導(dǎo)電劑漿料研磨分散機(jī)，多壁碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)，單壁碳納米管NMP漿料高速研磨分散機(jī)
碳納米管作為一維納米材料，重量輕，六邊形結(jié)構(gòu)連接完美，具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能，碳管漿料因其具有優(yōu)良的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，被廣泛應(yīng)用于導(dǎo)電膜、觸摸屏等電子設(shè)備域。
在導(dǎo)電導(dǎo)熱的碳管漿料生產(chǎn)過(guò)程中，分散過(guò)程是碳管漿料質(zhì)量的重要限制步驟，碳管漿料生產(chǎn)分散設(shè)備包括渦旋式、籃式、棒梢式和盤(pán)式等，其中盤(pán)式分散設(shè)備通過(guò)流體的相對(duì)運(yùn)動(dòng)碰撞，使碳管分散于漿料中，然而現(xiàn)有技術(shù)中的盤(pán)式分散設(shè)備，采用液壓升降裝置帶動(dòng)分散盤(pán)旋轉(zhuǎn)達(dá)到分散均質(zhì)效果，存在單一分散盤(pán)的分散效果不佳，分散盤(pán)速度低影響分散剪切力，料液易噴濺，機(jī)械加工效率低，從而降低碳管漿料的分散性和產(chǎn)能。
所以上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司(IKN)針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，特別研制一種導(dǎo)電導(dǎo)熱的碳管漿料生產(chǎn)用高剪切研磨分散機(jī)CMD2000系列導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)，通過(guò)研磨頭和分散頭的組合高速旋轉(zhuǎn)和漿料漩渦的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，提高碳管漿料的分散性和產(chǎn)能，使物料細(xì)化，均質(zhì)分散，形成狀態(tài)穩(wěn)定的漿料。
CMD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散腔體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
CMD2000系列導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)設(shè)備選型表：
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高速膠體磨 |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
|
類(lèi)型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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CMD 2000/4 |
700 |
14000 |
40 |
4 |
DN25/DN15 |
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CMD 2000/5 |
5,000 |
10,500 |
40 |
11 |
DN40/DN32 |
|
CMD 2000/10 |
10,000 |
7,300 |
40 |
22 |
DN50/DN50 |
|
CMD 2000/20 |
30,000 |
4,900 |
40 |
45 |
DN80/DN65 |
|
CMD 2000/30 |
60,000 |
2,850 |
40 |
75 |
DN150/DN125 |
|
CMD 2000/50 |
100000 |
2,000 |
40 |
160 |
DN200/DN150 |
|
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和終產(chǎn)品的要求。
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