氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機，氫氧化鎂機械法濕磨機，阻燃劑氫氧化鎂濕法研磨機，超細氫氧化鎂濕法粉碎機

     氫氧化鎂是一種白色無定型或結晶型無機化合物，不溶于水，易溶于酸。近年來隨著對無鹵阻燃劑的需求量的增大，氫氧化鎂作為無機阻燃劑的優(yōu)點尤為突出，它受熱時會分解產生水分，并且吸收大量的熱量，可迅速降低可燃材料表面的溫度，降低了產生可燃性物質的可能。氫氧化鎂阻燃劑具有分解溫度高，分解后產生水，同時氫氧化鎂分解生成的氧化鎂又是良好的耐火材料，也能幫助提高合成材料的抗火性能，同時它放出的水蒸氣稀釋了易ran氣體和氧氣濃度，阻斷了火災必要條件，延緩了火災的發(fā)生，氫氧化鎂與同類的無機阻燃劑相比，具有更好的抑煙效果。
     氫氧化鎂作為阻燃劑必須要求純度要高，并且純度越高，阻燃效果越好；實驗證明粒徑越小且粒徑分布范圍窄的氫氧化鎂作為阻燃劑填充到材料中時，各方面性能包括阻燃效果、消煙和機械性能都比普通氫氧化鎂優(yōu)越；大量研究報道氫氧化鎂微觀形貌為六角片狀或針狀結構作為阻燃劑要比其他形貌阻燃效果顯著；當氫氧化鎂表面性低時，顆粒積聚成團性降低，在材料中分散性和相容性增加，對材料機械性能影響減少。只有具備以上特性的氫氧化鎂才能和材料比較好的相容，才能作為阻燃劑添加到高聚物中。
      工業(yè)氫氧化鎂具有顆粒大、粒度分布寬、團聚現象嚴重、產品的分散性能較差，且性較高的缺點，無法滿足阻燃別的使用，但可以利用工業(yè)氫氧化鎂進一步制備阻燃劑用氫氧化鎂。 通過IKN濕法研磨分散機制取的阻燃劑氫氧化鎂，解決了現有技術工業(yè)氫氧化鎂制備阻燃劑氫氧化鎂中存在的對原料粒徑要求高、成本高、終產物粒徑分布寬的問題。
      工業(yè)氫氧化鎂為原料制備阻燃劑氫氧化鎂：將工業(yè)氫氧化鎂原料和水混合后進行研磨，得到氫氧化鎂料漿； 通過機械濕磨的方式進行研磨，濕磨得到平均粒徑為0.2-0.8μm的氫氧化鎂料漿。 從而解決了從工業(yè)氫氧化鎂制備阻燃劑氫氧化鎂的難題，使用原料為工業(yè)氫氧化鎂，因此本設備制備的阻燃劑氫氧化鎂相對于用傳統(tǒng)工藝制備的阻燃劑氫氧化鎂的純度高，分散性更好。并且對作為原料的工業(yè)氫氧化鎂的粒徑要求為30-60μm，故對原料粒徑要求較低。 制得粒徑小，粒徑分布窄，分散性好，形貌規(guī)則的六角片狀氫氧化鎂阻燃劑。 且不需要除了工業(yè)氫氧化鎂和水以外的其他添加物，原料廉價易得，生產成本低。 終制得的作為阻燃劑的氫氧化鎂粒徑小且粒徑分布范圍窄，形貌規(guī)則可控為規(guī)則六角片狀，分散性更好，與高聚物更易相容。
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     氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機工作原理：上海依肯CMSD2000系列研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉子間隙可以根據需要無限制調整間隙。第二由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子，好的表面處理和優(yōu)良的材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過研磨分散機定轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果，出料粒徑可以微納米。

影響研磨粉碎均質結果的因素有以下幾點

1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 研磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

CMSD2000系列氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機選型表

表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到大允許量的10% 
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