銅靶材是真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種,是高純銅材料經(jīng)過系列加工后的產(chǎn)品,具有特定的尺寸和形狀高純銅材料。由于高純銅特別是超高純銅具有許多優(yōu)良的特性,已廣泛應(yīng)用于電子、通信、超導(dǎo)、航天等尖端領(lǐng)域。
銅靶材分類:銅靶材有平面銅靶材和旋轉(zhuǎn)銅靶材之分。
平面銅靶材是片狀的,有圓形、方形等。
旋轉(zhuǎn)銅靶材是管狀的,利用效率高,但不易加工,要通過高純銅擠壓、拉伸、校直、熱處理,機加工等多種加工工序才能最終制得銅旋轉(zhuǎn)靶材成品。
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