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高能離子UV光解除臭設(shè)備

  • 發(fā)布時間:2025-04-16 00:00:00,加入時間:2018年03月02日(距今2699天)
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工作原理:

UV光離子除臭工藝主要是采用高能高臭氧 UV 紫外線光束、氧化反應(yīng)催化板、高能離子發(fā)生器的工藝來降解惡臭氣體(有機廢氣),改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,通過高能紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng),降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO₂、H₂O等。


系統(tǒng)特點:

1. 廢氣凈化的徹底性:UV光觸媒是分解污染物而不是吸附污染物,發(fā)生的是質(zhì)變而不是量變,對污染物具有不可逆的分解;


2. 廢氣分解的廣泛性:UV光催化氧化幾乎對所有的細(xì)菌、病毒和有機污染物起到強效分解作用,特別是對人們不易感知的細(xì)菌和病毒進(jìn)行徹底分解;


3. 無二次污染:UV光催化氧化的 *終產(chǎn)物是二氧化碳和水,對人體無害,不會產(chǎn)生類似消毒劑對環(huán)境產(chǎn)生的二次污染;


4.占地面積小。


適用范圍:


該工藝適用于低濃度廢氣或其他工藝的后序處理,如:中小型雨污水泵站、工業(yè)企業(yè)低濃度VOCS治理等。

高能離子UV光解除臭設(shè)備

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