日本島津氮化硅基板真空加壓燒結爐PHSgr60/60/140適用于Si₃N₄氮化硅材料從脫氣到加壓燒結的連續(xù)處理。新能源汽車、高鐵、城市軌道交通、5G 基站等設備上大功率控制模塊的散熱基板 及汽車、風電等設備上高精度、高轉速陶瓷軸承球的燒結處理。

用途：Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅軸承球、 Si₃N₄氮化硅結構件

日本島津氮化硅基板真空加壓燒結爐PHSgr60/60/140技術規(guī)格

有效尺寸(mm)：600*600*1400

處理量(KG)：720

額定溫度(℃)：2200

真空度(Pa)：7x10-1

壓力：0.9MPaG

加熱電力：N2,Ar

島津作為日本真空爐專業(yè)生產代表廠家，在硬質合金，合金陶瓷，金屬注射成形的生產和研究開發(fā)市場占有大部分的市場份額。經過數(shù)十年培育出的技術和成熟的生產工藝，系列化生產的真空爐，可以為用戶提供高質量的產品和服務。在中國，韓國等海外市場，也已擁有眾多的銷售業(yè)績，并得到客戶的青睞。

由于1MPa的低壓燒結，可以在一定程度上提高產品的抗彎強度和明顯減少偏差，因此部分替代6MPa的低壓爐使用，從而降低生產成本。