CLevios Etch和 CLevios Set S3

用于涂層線路圖案的輔助材料。CLevios Etch是一種水溶性粉末，CLevios Set S3是一種可印刷掩模（絲網印刷）。

賀利氏開發(fā)的一種特殊技術，通過濕法工藝對Clevios線路圖案進行處理。生成的線路肉眼幾乎看不見，因此不需要額外的步驟遮蓋，從而降低了成本。掩膜可以通過經濟的絲網印刷、凹板印刷或柔性印刷工藝來完成，或者通過光刻膠來實現更精細的結構。生產過程中，可以通過CCD進行光學檢測，這種特殊分析檢測方式很容易實現。賀利氏可提供技術支持服務。

CLEVIOS™PEDOT:PSS材料為我們打開通向應用領域的大門。只要您需要一種可以象液體一樣易于使用的透明電極，請考慮使用我們的CLEVIOS™聚合物材料。CLEVIOS™分散體及配方材料可通過不同的工藝形成涂層，如涂覆、噴涂或甚至在塑料和玻璃基材上印刷。涂好的濕膜可在80-130℃之間的中等溫度范圍內干燥。干膜進一步熱處理可直接使用。所形成膜的表面電阻率變化范圍大，從能夠(10E8歐姆/平方)到高導電性(200歐姆/平方)，且具有過85%的高透光率。但是，CLEVIOS™分散體不可覆蓋扁平基材，還可在多孔的鉭和鋁電容器上形成涂層。液態(tài)導電聚合物可穿過整個電容器結構，可實現的電氣接觸。

產品優(yōu)點：高導電、高柔性、高透明（無氣泡）、多種加工方式（可三維加工）、單組份水性產品（環(huán)保）。

Heraeus賀利氏電子化學材料clevios系列可提供用于原位聚合的單體、水基分散體、溶劑與溶液混合而成的即用型配方材料。

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