高純氧化鋁研磨高剪切研磨機(jī)

發(fā)布時(shí)間：2025-08-21 08:47:09,加入時(shí)間:2023年02月03日(距今946天)
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高純氧化鋁研磨高剪切研磨機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī),氧化鋁水性漿料研磨機(jī),三氧化二鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)，氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機(jī)

氧化鋁研磨分散機(jī)的設(shè)備技術(shù)越來(lái)越高，可以生產(chǎn)1微米以下的氧化鋁。納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無(wú)色透明。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該氧化鋁是納米氧化鋁經(jīng)過(guò)層層深加工篩選出來(lái)的氧化鋁，添加到各種丙烯酸樹(shù)脂，聚氨酯樹(shù)脂，環(huán)氧樹(shù)脂，三聚氰胺樹(shù)脂，硅丙乳液等樹(shù)脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以提高樹(shù)脂的硬度，硬度可達(dá)6-8H，*透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，同時(shí)可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。
氧化鋁陶瓷隔膜漿料分散機(jī)可以為氧化鋁粉的生產(chǎn)工業(yè)中產(chǎn)生大量的尾礦和赤泥對(duì)環(huán)境的影響非常大，鋁土礦作為*資源，其保障程度直接制約著一個(gè)地區(qū)氧化鋁工業(yè)的總量與生存周期。因此，各政府和有關(guān)部門(mén)，必須準(zhǔn)確把握氧化鋁工業(yè)的發(fā)展形勢(shì)，資源與環(huán)境制約狀況和基本規(guī)律，按照總量控制的要求，嚴(yán)格控制新建氧化鋁項(xiàng)目，堅(jiān)決制止盲目發(fā)展和低水平重復(fù)建設(shè)，努力實(shí)現(xiàn)氧化鋁工業(yè)發(fā)展與資源充分利用，優(yōu)化生態(tài)環(huán)境相統(tǒng)一。

IKN氧化鋁高剪切均質(zhì)乳化機(jī)應(yīng)用于各種物料的超細(xì)粉碎，如農(nóng)藥、醫(yī)藥、炭黑、白炭黑、AC發(fā)泡劑、復(fù)印墨粉、熒光粉、鋯英砂、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鋇、涂料、石墨、塑料盒橡膠用各種填充劑、非金屬礦，以及各種高價(jià)值營(yíng)養(yǎng)品、珍珠粉、花粉等。隨著高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對(duì)各種物料的超細(xì)粉碎要求的提高，還會(huì)應(yīng)用到更加廣闊的域。

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從設(shè)備角度分析，影響研磨效果的因素：

1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見(jiàn)磨頭結(jié)構(gòu)）

4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)

由上可知，研磨速率取決于以下因素：

磨頭的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。（相對(duì)而言）