成都kemet拋光機(jī)應(yīng)用于材料表面

kemet拋光機(jī)

用于 KemCol 15 的配件和耗材

描述 代碼

3 件套陶瓷面調(diào)理環(huán) 361522

不銹鋼塑料面調(diào)節(jié)環(huán) 362757

380 毫米不銹鋼支撐板（用于拋光墊） 362033

380 毫米鋁制升降盤 361001

380 毫米鋁制驅(qū)動(dòng)板 361002

380 毫米薄金屬盤（用于磁性系統(tǒng)） 342563

380 毫米磁盤 345773

CMP 研磨液 5 升 10 升 20 升

Col-K 600212 600238 600204

科爾-K（NC） 600199 600239 600202

kemet拋光機(jī)

CMP拋光液

耗材 代碼

380 毫米 CHEM-H 聚氨酯拋光墊 341865

380 毫米 PSU-M 鈰化學(xué)紡織布 341011

380 毫米 MRE 短絨毛最終拋光墊 341715

  kemet化學(xué)機(jī)械拋光介紹

化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP) 是一種在制造業(yè)中越來越流行的表面拋光方法。CMP 是將化學(xué)力和機(jī)械力組合應(yīng)用于材料表面，以將其拋光至非常高的光滑度。該工藝對(duì)于難以加工或具有復(fù)雜幾何形狀的材料特別有用。