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洋口晶圓清洗超純水設(shè)備/CMP拋光超純水設(shè)備

  • 發(fā)布時間：2025-05-30 14:04:31,加入時間:2024年12月03日(距今277天)
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‌超純水設(shè)備‌是一種通過多級過濾和凈化過程去除水中的懸浮物、細(xì)菌、病毒、有機物、重金屬離子等污染物，最終得到電阻率大于18.2 MΩ·cm的超純水的設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于實驗室、半導(dǎo)體、制藥、電力等領(lǐng)域，尤其在要求極高的水質(zhì)環(huán)境下表現(xiàn)出色‌

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