石墨烯制備方法，石墨烯怎么制作，制作石墨烯用什么設(shè)備，石墨烯NMP研磨分散機(jī)，石墨烯NMP漿料生產(chǎn)設(shè)備，石墨烯NMP高剪切分散機(jī)，石墨烯NMP高剪切研磨機(jī)，石墨烯NMP漿料專用生產(chǎn)設(shè)備， 石墨烯油墨研磨分散機(jī)，石墨烯油墨生產(chǎn)設(shè)備，石墨烯油墨生產(chǎn)工藝，石墨烯高剪切研磨分散機(jī)，石墨烯剝離設(shè)備，石墨烯高剪切分散機(jī)，石墨烯分層設(shè)備
石墨烯主要制備方法：
制備石墨烯常見的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學(xué)氣相沉積法（CVD）。
1.機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng)，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)，但是得到的片層小，生產(chǎn)效率低。
2.氧化還原法是通過將石墨氧化，增大石墨層之間的間距，再通過物理方法將其分離，***后通過化學(xué)法還原，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，產(chǎn)量高，目前國內(nèi)使用氧化，還原法制作石墨烯漿料的，如：寧波墨
稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè)，
3.SiC外延法是通過在超高真空的高溫環(huán)境下，使硅原子升華脫離材料，剩下的C原子通過自組形式重構(gòu)，從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯，但是這種方法對(duì)設(shè)備要求較高
4.CVD也叫氣相沉積法是目前***有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn)，國內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)
石墨烯NMP漿料生產(chǎn)設(shè)備
在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（***高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
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CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
CMD2000系列設(shè)備選型表
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
