，銀漿超高速分散機，銀漿超高速膠體磨，銀漿超高速分散機，銀漿超高速研磨機，銀漿管線式分散機，銀漿管線式研磨機，銀漿管線式膠體磨，銀漿研磨分散機廠家
1.銀漿是由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴(yán)格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關(guān)系。上海依肯機械設(shè)備有限公司銀漿分散機zui高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000轉(zhuǎn)，采用錐體磨頭+定轉(zhuǎn)子的磨頭結(jié)構(gòu)，更夠更好地是銀漿更加細(xì)化分散均勻，充分發(fā)揮銀漿的性能。
2.，銀漿超高速分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
3.CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
4.，銀漿超高速分散機的型號表
|
研磨分散機 |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
|
類型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
CMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
|
CMD 2000/5 |
3000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
CMD |
8000 |
4,200 |
23 |
18 |
DN80/DN65 |
|
CMD |
20000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
CMD |
40000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
CMD |
120000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
|
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1） 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2） 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
，銀漿超高速分散機，銀漿超高速膠體磨，銀漿超高速分散機，銀漿超高速研磨機，銀漿管線式分散機，銀漿管線式研磨機，銀漿管線式膠體磨，銀漿研磨分散機廠家
