2 、除臭工藝要求 2.1 離子除臭工藝 系統(tǒng)要求采用離子法常溫氧化除臭工藝設(shè)備，工藝流程如下： 臭氣收集臭氣輸送過濾裝置離子-光解一體化發(fā)生反應(yīng)系統(tǒng)裝置離心風(fēng)機達標(biāo)后通過管路排放。 1）、離子除臭工藝是一種安全可靠的處理方法，其原理為離子活化臭氣分 子發(fā)生分解的直接反應(yīng)與活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應(yīng)相結(jié)合 的一種高級氧化技術(shù)，綜合利用了離子對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì) 的氧化去除作用來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇等 VOC（揮發(fā)性有機 物）。 2）、污水所產(chǎn)生的臭氣經(jīng)臭氣收集系統(tǒng)收集后集中送至離子除臭裝置處 理，經(jīng)抽風(fēng)機作用后達標(biāo)排放，抽風(fēng)機與除臭裝置配合設(shè)計選型，并位于同一 個土建基礎(chǔ)上。 3）、賣方提供的離子除臭設(shè)備為成套裝置，必須是引用世界領(lǐng)先的除臭技 術(shù)產(chǎn)品。并應(yīng)全面負責(zé)咨詢、設(shè)計、供貨、安裝、調(diào)試及操作培訓(xùn)、服務(wù) 等。 4）、處理系統(tǒng)的風(fēng)量設(shè)置必須滿足同時滿足規(guī)定的最小風(fēng)量的要求。 本項目選用離子法除臭設(shè)備需具有以下特點除臭系統(tǒng)主體部件離子發(fā)射裝置必須是原產(chǎn)地廠家生產(chǎn)，設(shè)備性能先 進，質(zhì)量可靠離子發(fā)生裝置設(shè)計科學(xué)，風(fēng)阻小，能耗低系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)設(shè)計合理簡潔、占地面積小、運行成本低等顯著特點系統(tǒng)運行穩(wěn)定，抗沖擊負荷能力強，并可在確保排放達標(biāo)的前提下采用 經(jīng)濟運行模式，以降低運行成本系統(tǒng)運行方式可根據(jù)工況采用連續(xù)運行或間斷運行模式對環(huán)境無任何形式的二次污染系統(tǒng)主體設(shè)備使用壽命 10 年，離子發(fā)射管使用壽命大于 20000 小時。