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光解催化氧化設(shè)備 UV紫外光除臭設(shè)備

  • 發(fā)布時(shí)間:2023-03-08 17:14:14,加入時(shí)間:2021年06月23日(距今1488天)
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UV光解光氧設(shè)備:采用波長低于280nm,一般采用185nm的UV紫外光源進(jìn)行廢氣處理。其主要原理是利用中短波紫外線光子所攜帶的能量較強(qiáng)。315nm~280nm的中波紫外,能量強(qiáng)度為3.94eV~4.43eV;280nm~100nm的短波紫外,能量強(qiáng)度為4.43eV~12.4eV,通過紫外線的光子轟擊有機(jī)物的分子鏈,實(shí)現(xiàn)分子鏈的斷裂,斷裂的有機(jī)物成分與氧氣、臭氧等反應(yīng),生成產(chǎn)物為CO2和H2O等無害物質(zhì)。

UV光催化氧化除臭設(shè)備:采用光催化劑,利用催化劑在紫外光(一般是波長在365nm以下的光源)的照射下,產(chǎn)生電子空穴。電子空虛分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生羥基自由基,或使其周圍的氧還原成活性離子氧,從而具備極強(qiáng)的氧化還原能力,將光催化劑表面的各種污染物分解。光催化氧化技術(shù)采用的光源波長較長、可散射的距離遠(yuǎn),覆蓋的有效凈化區(qū)域空間大,但光催化劑易中毒而失效。

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