一種解決高濃度漿料研磨分散機(jī)

上海依肯IKN研發(fā)工程師針對(duì)以上問題，結(jié)合多年來豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，特別研制IKN-CMSD2000系列研磨分散機(jī)，CMD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好） 線速度的計(jì)算 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素： – 轉(zhuǎn)子的線速率 – 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

CMSD2000系列研磨分散機(jī)選型表

型號(hào) 流量 L/H 轉(zhuǎn)速 rpm 線速度 m/s 功率 kw 入/出口連接 DN

CMSD 2000/4 300 14000 41 4 DN25/DN15

CMSD 2000/5 1000 10500 41 11 DN40/DN32

CMSD 2000/10 4000 7200 41 22 DN80/DN65

CMSD 2000/20 10000 4900 41 45 DN80/DN65

CMSD 2000/30 20000 2850 41 90 DN150/DN125

CMSD 2000/50 60000 1100 41 160 DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%