刻蝕機(jī)是一種通過(guò)化學(xué)或物理手段將某些材料表面局部去除的設(shè)備,從而獲得所需的細(xì)微結(jié)構(gòu)或器件?涛g機(jī)在微電子、納米技術(shù)、生物芯片等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。
刻蝕機(jī)主要通過(guò)在目標(biāo)材料表面進(jìn)行化學(xué)或物理反應(yīng),使其形成模板、圖案或其他細(xì)微結(jié)構(gòu)。在化學(xué)刻蝕中,刻蝕液中的氣體或物質(zhì)與材料表面反應(yīng),發(fā)生離子交換將目標(biāo)物質(zhì)清除。在物理刻蝕過(guò)程中,則使用離子束或光束照射目標(biāo)材料,通過(guò)因子打擊去除所需結(jié)構(gòu)。