一臺完整的鍍膜機通常包括以下主要組成部分：

1.真空腔體：用于產(chǎn)生和維護真空環(huán)境，主要包括吸氣、排氣、內(nèi)外罩殼、維護裝置、真空系統(tǒng)等相關(guān)設(shè)備。

2.基片夾持系統(tǒng)：用于固定需要進行鍍膜的基片，通常采用機械夾持或者磁力夾持的方式。

3.靶材或者源材料：用于鍍膜過程中的材料來源，通常是固體靶材或者液態(tài)源材料。

4.鍍膜控制系統(tǒng)：用于對鍍膜過程中各個參數(shù)的控制和監(jiān)測，包括真空度、電壓、電流、工件溫度、鍍層厚度等參數(shù)的監(jiān)測和調(diào)整。